-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
185 × 5 × 4,2 mm op maat gemaakte glazen onderdelen Kwartssubstraatstrip lage thermische uitzetting
| Materiaal | Hoge zuiverheid gesmolten silica (SiO2 > 99,99%) | Afmetingen | 185 mm x 5 mm x 4,2 mm (L x B x D) |
|---|---|---|---|
| Max bedrijfstemperatuur | 1100°C | Oppervlakteafwerking | precisiegrond |
| Thermische expansiecoëfficiënt | 5,5x10^-7/°C | Chemische weerstand | Fluorwaterstofzuur, sterk zuur en alkali |
| Dimensionale tolerantie | Strakke precisiecontrole | Sollicitatie | Vision Light-basis, optisch afstandsstuk, vacuümcoatingarmatuur, laboratoriummonsterdrager |
| Markeren | 185 × 5 × 4,2 mm op maat gemaakte glasonderdelen,185 × 5 × 4 |
||
Productoverzicht
DeHigh Purity Fused Silica Quartz Substrate Stripis een met precisie gemalen kwartsglasstrook (185 mm x 5 mm x 4,2 mm) ontworpen voor machine vision, optische assemblage, vacuümcoating en laboratoriumtoepassingen.Vervaardigd uit prima gesmolten silica (SiO2 > 99.99%) met een strakke dimensiecontrole, biedt deze strip een superieure thermische stabiliteit, chemische traagheid en optische helderheid.
Belangrijkste kenmerken
- met een vermogen van niet meer dan 10 kWSiO2 > 99,99% met een zeer laag onzuiverheidsgehalte, dat zorgt voor een verontreinigingsvrije werking in gevoelige toepassingen
- Temperatuurweerstand: 1100°CBehoudt de structurele integriteit bij extreme temperaturen zonder verzachting of vervorming
- HF & sterke corrosiebestendigheid:Uitstekende chemische duurzaamheid tegen fluorwaterzuur, sterke zuren en alkalis
- Precisie Grondoppervlak:fijn gepolijst met een nauwe afmetingstolerantie voor nauwkeurige montage en plaatsing
- Laag thermisch uitbreiden:CTE van 5,5 x 10^-7 /°C voorkomt scheuren, vervorming en randsplintering onder thermische cyclus
- Uitstekende lichtdoorlatendheid:Hoge optische helderheid geschikt voor toepassingen op het gezichtssysteem en optische paden
Toepassingen
| Industriële sector | Toepassing |
|---|---|
| Machinaal zicht | Basisplaat van de lichtbron voor zicht, LED-lichtbalk-inlegvoer |
| Optische verzameling | Optische componenten positioneringspad, optische pad spacer blok |
| Vacuümcoating | Verpakkingsmateriaaldrager, pallet voor het ondersteunen van kleine lenzen |
| Laboratorium | Hoogtemperatuurmonsterdragerplaat, basis van het corrosieproefplatform |
Concurrentievoordelen
versus borosilicaatglas:Superieure HF-zuurbestandheid; geen verzachting of vervorming bij hoge temperaturen van meer dan 500 °C; aanzienlijk lagere thermische uitbreiding voorkomt scheuren
Versus Plastic Components:Uitstekende weerstand tegen organische oplosmiddelen; lange termijn dimensionale stabiliteit zonder vergeling of vervorming; geschikt voor hoge temperaturen en corrosieve omgevingen
Specificaties
| Parameter | Waarde |
|---|---|
| Materiaal | Siliciumfolie van hoge zuiverheid (SiO2 > 99,99%) |
| Afmetingen | 185 mm (L) x 5 mm (W) x 4,2 mm (T) |
| Maximale werktemperatuur | 1100°C |
| CTE | 5.5 x 10^-7 /°C |
| Oppervlakte afwerking | Precision Ground |
| Chemische weerstand | HF, sterk zuur en alkali |
| Dimensionele tolerantie | Strenge nauwkeurige controle |
| Lichtdoorstraling | Uitstekende optische helderheid |

