Hoge zuiverheid gesmolten siliciumkwarts boot Custom Glass Parts Integral Forming voor halfgeleider Annealing Tray

Productdetails
Materiaal Hoge zuiverheid gesmolten silica (SiO2 > 99,99%) Vormingsproces Integraal warmvormen
Max bedrijfstemperatuur 1100°C Chemische weerstand HF, sterk zuur en alkali, organische oplosmiddelen
Thermische expansie CTE 5,5 x 10^-7/°C (laag) Oppervlakteafwerking Fijn gepolijste, gladde randen
Zuiverheid Geen neerslag van metaalionen Sollicitatie Sinteren van buisovens, gloeien van halfgeleiders, verassen van laboratoria, onderzoek en ontwikkeli
Markeren

Hoge zuiverheid gesmolten silica boot

,

Integral vormend kwartsboot

,

Quartzboot voor halfgeleiderverwarmingsbak

Laat een bericht achter
Productomschrijving

Productoverzicht

DeBoot van gesmolten silicakwarts met hoge zuiverheidis een nauwkeurig gevormde drager voor hoge temperaturen, ontworpen voor het sinteren van buisovens, de verwerking van halfgeleiders en thermische laboratoriumtoepassingen. Het is vervaardigd door middel van integrale warmvervorming voor een uniforme wanddikte en fijngepolijste oppervlakken en levert uitstekende thermische stabiliteit tot 1100°C, superieure chemische weerstand tegen fluorwaterstofzuur en geconcentreerde corrosieve reagentia, en neerslag zonder onzuiverheden - waardoor een contaminatievrije verwerking voor de meest veeleisende industriële en onderzoeksomgevingen wordt gegarandeerd.

Belangrijkste kenmerken

  • Integraal warmvormen:De constructie uit één stuk zorgt voor een uniforme wanddikte, structurele integriteit en elimineert zwakke verbindingen of naden
  • 1100°C Weerstand op hoge temperatuur:Behoudt de dimensionele stabiliteit en mechanische sterkte bij langdurige werking bij hoge temperaturen in buisovens
  • HF en sterke chemische bestendigheid:Uitstekende chemische duurzaamheid tegen fluorwaterstofzuur, geconcentreerde zuren, sterke basen en organische oplosmiddelen
  • Uitstekende thermische schokstabiliteit:Lage thermische uitzettingscoëfficiënt (CTE 5,5 x 10^-7/°C) voorkomt scheuren tijdens snelle verwarmings- en koelcycli
  • Nul onzuiverheidsprecipitatie:SiO2 > 99,99% zuiverheid garandeert geen uitloging van metaalionen, waardoor de integriteit van wafers en monsters wordt beschermd
  • Precisieafwerking:Oppervlak fijn gepolijst met gestandaardiseerde afmetingen, gladde randen en geen chippen voor veilige monsterhantering

Toepassingen

IndustrieSollicitatie
Sinteren van buisovensDrager voor het calcineren van poeders, wafers en keramische substraten bij hoge temperatuur in buisovens met gecontroleerde atmosfeer
HalfgeleiderverwerkingWafergloeien en voorcoaten van een voorbehandelingsbak op hoge temperatuur, waardoor ultraschone, contaminatievrije omstandigheden worden gegarandeerd
LaboratoriumtestenVerassingsexperiment en monstercontainer voor corrosieve onderdompeling voor analytische chemie en materiaalkarakterisering
Onderzoek naar nieuwe materialenPoedersynthese- en precursor-warmtebehandelingsvat voor geavanceerde materiaalontwikkeling

Concurrentievoordelen

versus borosilicaatglasboot:Borosilicaatglas is niet bestand tegen fluorwaterstofzuur en wordt zacht bij hoge temperaturen; Deze kwartsboot is bestand tegen sterke corrosie en behoudt de mechanische integriteit door herhaalde thermische cycli van 1100°C zonder vervorming of scheuren

versus aluminiumoxide/keramische boot:Superieure thermische schokbestendigheid maakt snelle verwarming en koeling mogelijk; transparante wand maakt visuele procesmonitoring mogelijk; nul metaalonzuiverheid elimineert het risico op besmetting van wafers en monsters

Specificaties

ParameterWaarde
MateriaalHoge zuiverheid gesmolten silica (SiO2 > 99,99%)
VormprocesIntegraal warmvormen
Maximale bedrijfstemperatuur1100°C
Chemische weerstandHF, sterk zuur en alkali, organische oplosmiddelen
Thermische uitzettingCTE 5,5 x 10^-7/°C (laag)
OppervlakteafwerkingFijn gepolijste, gladde randen
ZuiverheidGeen neerslag van metaalionen