-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
Eén eind verzegeld kwartsbuis gesmolten siliciumbuis OD 4 mm ID 2 mm Lengte 35 mm Micro-monstervat
| Buitendiameter | 4 mm |
|---|---|
| Binnendiameter | 2 mm |
| Lengte | 35 mm |
| Eindzegel | Eén uiteinde hermetisch afgedicht |
Gefrostte Quartzglasbuis OD 32.7mm ID 30mm Lengte 85mm Lichte homogeniserende mouw
| Buitendiameter | 32.7mm |
|---|---|
| Binnendiameter | 30 mm |
| Lengte | 85 mm |
| Materiaal | Borosilicaatglas of gesmolten silica |
Ronde gesmolten silica buis OD 3 mm ID 0,8 mm Lengte 65 mm Micro spectrum bemonstering
| Buitendiameter | 3 mm |
|---|---|
| Binnendiameter | 0,8 mm |
| Lengte | 65 mm |
| Materiaal | Zeer zuiver gesmolten silica, nauwkeurig getrokken |
Ring Fused Silica Producten OD 288mm ID 272mm Dikte 28mm Hoge Temperatuur Ovenafdichting
| Buitendiameter | 288mm |
|---|---|
| Binnendiameter | 272 mm |
| Dikte | PLC industriële besturing |
| Materiaal | Zeer zuiver gesmolten silica, integraal gevormd |
Vierkante gesmolten kwarts productafstandhouder 3x3x1,5 mm tolerantiegraad -1 precisie optische shim
| Dimensie | 3 x 3 x 1,5 mm |
|---|---|
| Tolerantie | Graad -1 negatieve precisietolerantie |
| Materiaal | Zeer zuiver gesmolten silica |
| Oppervlak | Fijngeslepen of polijstbaar |
Eenzijdig gepolijst kwartsplaat 130x5x1.5mm Optisch testvensterglas
| Dimensie | 130 x 5 x 1,5 mm |
|---|---|
| polijsten | Enkelzijdig optisch polijsten |
| Oppervlak | Krasvrij gepolijst oppervlak |
| Materiaal | Hoge zuiverheidskwarts |
Halve ronde gesmolten silica buis OD 4 mm ID 2 mm Lengte 50 mm Wanddikte 2 mm
| Buitendiameter | 4 mm |
|---|---|
| Binnendiameter | 2 mm |
| Totale lengte | 50 mm |
| Wanddikte | 2 mm |
65x2,9x2mm Sapphire Substrate Precision Polished Laser Equipment Drager Base
| Dimensie | 65 x 2,9 x 2 mm |
|---|---|
| Materiaal | Eénkristalssaffier (aluminiumoxide) |
| Oppervlakteafwerking | Precision Gepolijst |
| Tolerantie | Strakke Dimensionale Tolerantie |

