-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
Ring Fused Silica Producten OD 288mm ID 272mm Dikte 28mm Hoge Temperatuur Ovenafdichting
| Buitendiameter | 288mm | Binnendiameter | 272 mm |
|---|---|---|---|
| Dikte | PLC industriële besturing | Materiaal | Zeer zuiver gesmolten silica, integraal gevormd |
| Oppervlak | Vlak ringoppervlak, vrij van chippen en luchtbellen | Temperatuurbestendigheid | Boven de 1100 graden Celsius |
| Maatwerk | Dubbelzijdig polijsten, gleufsteken, boren | ||
| Markeren | Ringvormige gesmolten silicaproducten,Hoge temperatuur gesmolten silicaproducten,Ovenafdichting ringvormige gesmolten silicaproducten |
||
De Fused Silica Ring is een grote precisie ring component met een buitendiameter van 288 mm, een binnendiameter van 272 mm en een dikte van 28 mm, integraal gevormd uit hoogzuivere gesmolten silica.De platte ringoppervlakte is vrij van splinters, bubbels en tussenlagen, die een schone en betrouwbare afdichting en draagvlak bieden.een ultralage thermische uitbreidingscoëfficiënt en weerstand tegen temperaturen boven 1100 graden CelsiusDe ring is bestand tegen extreme thermische omstandigheden zonder te barsten.halfgeleiderapparatuur en optische instrumenten.
Specificatie| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Buitendeursdiameter | 288 mm |
| Inwendige diameter | 272 mm |
| Dikte | 28 mm |
| Materiaal | met een gewicht van niet meer dan 50 kg |
| Oppervlakte | Platte ringoppervlak, vrij van splinters en bubbels |
| Temperatuurbestendigheid | Meer dan 1100 graden Celsius |
| Aanpassing | Polering, splijten en boren met twee zijden |
- met een breedte van niet meer dan 50 mm,De één-delige structuur zorgt voor een uniforme materiaalkwaliteit en een betrouwbare sterkte.
- Vlakke ringoppervlakte zonder gebreken:Het oppervlak is vrij van splinters, bubbels en tussenlagen voor een betrouwbaar afdichtingscontact.
- Hoge doorlaatbaarheid van UV naar IR:De ring zendt licht over een breed spectrum voor optische toepassingen.
- Ultra-lage thermische uitbreiding:Weerstand boven 1100 graden Celsius en scheurbestendig gedrag onder thermische schok zorgen voor stabiliteit.
- Sterke chemische en isolatieprestaties:Weerstand tegen sterke zuren en alkalische stoffen, gecombineerd met uitstekende isolatie, ondersteunt veeleisende omgevingen.
De Fused Silica Ring is ontworpen voor industriële systemen met hoge temperatuur en precisie die een stabiele ringvormige component vereisen.het onderhouden van een schoon afdichting in warmteverwerkingsapparatuurIn de productie van halfgeleiders dient de ring als dragerring voor halfgeleiderapparatuur, die wafers en componenten bij verhoogde temperaturen ondersteunt.Het onderdeel wordt ook gebruikt als flenstpakking voor optische instrumentenIn coatingsystemen fungeert het als bevestigingsonderdeel voor coatingsystemen, waarbij het werkstukken tijdens de afzetting vasthoudt.de ring fungeert als een hoge temperatuur isolatie ring voor industriële observatie, die optische transparantie combineert met thermische duurzaamheid.
Voordelen- met een gewicht van niet meer dan 50 kgDe hoge coaxie van de binnenste en buitenste cirkels zorgt voor een nauwkeurige pasvorm en rotatie.
- Minimale vervorming en geen onzuiverheidsafval:Stabiele geometrie en zuiverheid worden onderhouden bij lange termijn hoge temperatuur.
- Aanpasbare verwerking:Het poleren, het splijten en het boren van dubbelzijden kunnen worden geregeld om aan de toepassingsvereisten te voldoen.
- Hoge mechanische sterkte en lange levensduur:De robuuste ringstructuur zorgt voor een langere duurzaamheid in veeleisende omgevingen.

