-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
Verdikte 9 inch wafer kalibratie kwarts glasplaat hoge temperatuur
| Maat | 9 inch (overeenkomende standaard waferafmeting) | Dikte | Aangepast verdikt ontwerp |
|---|---|---|---|
| Materiaal | Gesmolten silica met hoge doorlaatbaarheid / alkalivrij borosilicaatglas (optioneel) | Oppervlakteafwerking | Dubbelzijdig ultraprecies optisch polijsten |
| Vlakheid en parallellisme | Optische referentiekwaliteit | Randbehandeling | Precisie afgeschuind, splintervrij |
| Markeren | hoogtemperatuur Verdikte kwartsglasplaat,9 inch kwartsglasplaat,Wafer kalibratie kwarts glasplaat |
||
De verdikte 9-inch Wafer Calibration Glass Plate is een nauwkeurig optisch referentiesubstraat dat is ontworpen voor de dimensie, het uiterlijk en de vlakheid van halfgeleiderwafers.Vervaardigd van gesmolten silica met een hoge doorlaatbaarheid of van alkalivrij borosilicaatglas, deze kalibratieplaat komt overeen met de standaard 9-inch wafer afmeting terwijl het een aangepaste verdikte structuur biedt die bestand is tegen buigen en vervorming tijdens herhaalde inspectiecycli.De dubbelzijdige ultra-precieze gepolijste oppervlakken leveren optische vlakheid en parallelisme, die een stabiele geometrische basis biedt voor geautomatiseerde optische inspectiesystemen.het plaatje zorgt ervoor dat de meetgegevens consistent en herhaalbaar blijven gedurende lange productietijden, waardoor het een essentieel hulpmiddel is voor de fabricage van wafers, de uitlijning van lithografie en optische beeldmetingen.
Specificatie| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Grootte | 9 inch, overeenkomstige standaard wafer afmetingen |
| Dikte | Op maat gemaakte verdikte ontwerpen |
| Materiaal | Glas van gesmolten silica met een hoge doorlaatbaarheid / borosilicaatglas zonder alkalische stoffen (facultatief) |
| Oppervlakte afwerking | optisch polijsten met een dubbelzijdige ultraprecisie |
| Vlakheid en parallelisme | Optische referentieklasse |
| Bescherming van de rand | met een breedte van niet meer dan 50 mm |
| Toepassing | Inspectie van de afmetingen, het uiterlijk en de vlakheid van de wafer |
- Vergrote structuur voor stijfheid:De versterkte plaat vermijdt vervorming en vervorming tijdens de inspectie en levert stabiele en herhaalbare kalibratiegegevens.
- met een vermogen van meer dan 10 WDe oppervlakken zijn vrij van krassen, putten, bubbels en stenen, met optische vlakheid en parallelisme.
- Eenvormige hoge doorlaatbaarheid van UV naar zichtbaar licht:Het substraat met een hoge zuiverheid minimaliseert de interferentie van verstrooid licht en is volledig compatibel met automatische optische inspectieapparatuur van AOI.
- Laag thermisch uitbreidingscoëfficiënt:Minimale vervorming bij temperatuurverandering zorgt ervoor dat de referentiegeometrie stabiel blijft en het materiaal bestand is tegen zuur- en alkalische reinigingsoplossingen.
- met een vermogen van meer dan 50 WDe scherpe randen beschermen wafers en inspectielenzen tegen krassen tijdens het hanteren en laden.
De verdikte 9-inch wafer kalibratie glasplaat dient als een veelzijdige optische referentie in de halfgeleider productie en inspectie omgevingen.Het wordt veel gebruikt voor 9-inch silicium wafer dimensie kalibratie, die een betrouwbare geometrische standaard biedt die de nauwkeurigheid van meetinstrumenten verifieert.het optisch oppervlak fungeert als betrouwbare referentiebasis voor het vergelijken van de oppervlakte-eenvormigheid en het detecteren van afwijkingenHet plaatje fungeert ook als standaard drager voor optische beeldmetingsinstrumenten en ondersteunt een consistente positionering tijdens de dimensionale analyse.het werkt als een uitlijning kalibratie plaat die helpt bij het behoud van nauwkeurige patroon registratieBovendien wordt de plaat gebruikt als bevestigingsbasis voor de inspectie van oppervlaktefouten van wafers, waardoor een plat, stabiel en verontreinigingsvrij platform wordt aangeboden voor geautomatiseerde detectie van defecten.
Voordelen- met een breedte van niet meer dan 50 mm,De versterkte structuur voorkomt dat de referentieverschuiving tijdens de massa-inspectie op lange termijn plaatsvindt, waardoor de kalibratieresultaten na elke beurt betrouwbaar blijven.
- Materiaal van hoge zuiverheid zonder neerslag:Het schone substraat geeft geen verontreinigende stoffen af, waardoor de wafers tijdens de contactinspectie tegen verontreiniging worden beschermd.
- Volledige aanpassing:De dikte, de optische coating, de markering op de lijnschaal, de splitsing en het boren kunnen allemaal worden afgestemd op de behoeften van de klant.
- Hoge consistentie in een enkel stuk:Een strikte productiecontrole zorgt ervoor dat de platen uitwisselbaar zijn voor meerdere inspectiemachines met dezelfde prestaties.

