-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
Kwartsmondstuk met hoge zuiverheid en precisie voor halfgeleider- en PV-micro-elektronica
| Materiaal | Hoogzuivere kwarts | Buitendiameter | Φ10mm |
|---|---|---|---|
| Binnengatendiameter | Φ0.5mm | Totale lengte | 2 mm |
| Temperatuurbereik | 200℃~1100℃ | ||
| Markeren | Kwarts spuitmond met hoge zuiverheid,Kwarts spuitmond voor precisieboren,Kwarts spuitmond voor halfgeleiders |
||
Productnaam: Precisiekwarts mondstuk met hoge zuiverheid
Afmetingen: Buitendiameter Φ10mm * Binnendiameter Φ0.5mm * Totale lengte 2mm
Dit mondstuk is integraal verwerkt uit hoogzuiver kwarts met precisieboren. Het beschikt over hoge temperatuurbestendigheid, weerstand tegen sterke zuren en logen, geen metaalionenuitloging, gladde binnenwand anti-verstopping en hoge slijtvastheid. Veel gebruikt in waferreiniging, laboratoriumverneveling, fijne chemische gasverneveling, coating van nieuwe energiematerialen, omgevingsmicro gas-vloeistofverneveling en andere werkomstandigheden. Gedetailleerde scenario's zijn als volgt:
Halfgeleider en PV Micro-elektronica
Waferverneveling en -reiniging met hoogzuivere chemische vloeistofverneveling geschikt voor fluorwaterstofzuur en hoogzuivere etsende reinigingsoplossing. Kwarts reageert niet met corrosieve vloeistof, geen zware metaalvervuiling of putcorrosie op het waferoppervlak om de chipopbrengst te garanderen. Nauwkeurige splitsing van hoogzuiver elektronisch dragersgas Micro-splitsing en spoelmondstuk voor inert gas zoals stikstof en argon. Kleine boring levert uniforme fijne luchtstroom voor kamerreiniging en gelijkmatige precursorlevering.
Laboratoriumchemie en Microvernevelingsexperimenten
Microreagensverneveling en gasmonsteruitstoot Vernevelingsreactie van sporen zuur-base reagens en dragergasafleiding voor gaschromatografie. Kleine boring produceert gelijkmatige fijne mist om de gas-vloeistofcontactefficiëntie te verhogen voor katalyse, absorptie en microdetectietests. Hoge temperatuur atmosfeer reiniging en stofverwijdering van monsters Inert gas reiniging geschikt voor buisovens en reactiekamers, stabiel bestand tegen 200~1100℃ zonder barsten onder thermische schok.
Lithiumbatterij Nieuwe Materialen en Fijne Chemicaliën
Vernevelingssynthese van hoogzuivere grondstoffen Vernevelingsmondstuk voor lithiumbatterijprecursoren en ultrahoogzuivere chemische zoutoplossing. Bestand tegen langdurig spoelen met HF en geconcentreerde loog, gladde binnenwand voorkomt kristalverstopping voor continue stabiele verneveling. Spraybuffer voor sterke corrosieprocessen Speciale sproeikop voor beits- en alkalische wasproductielijnen. Vervang metalen en borosilicaat mondstukken zonder roest of ionenuitloging om de levensduur te verlengen.
Milieudetectie en speciale hogetemperatuurverneveling
Verneveling en absorptie voor monsterneming van afvalgas met sporen Ondersteunend vernevelingscomponent voor vervuilingsuitlaatgastests. Breek absorptievloeistof op in fijne mist om sporenverontreinigingen volledig op te vangen en de detectienauwkeurigheid te verbeteren. Continue hogetemperatuursproeien Geschikt voor hogetemperatuurvergassing en hete sproeiprocessen. Stabiel onder breed temperatuurbereik, slijtvast tegen langdurig hoogfrequent spoelen met onveranderde boormaat.
Kernvoordelen (vs metalen mondstukken en borosilicaatglazen mondstukken)Uitstekende corrosiebestendigheid: Bestand tegen langdurig spoelen met fluorwaterstofzuur, geconcentreerd sterk zuur en loog. Metalen mondstukken roesten vaak, terwijl borosilicaatglas faalt in HF-omgeving.
Breed hogetemperatuurbereik: Stabiele continue werking bij 200–1100℃, uitstekende weerstand tegen thermische schokken bij plotselinge koude-hete afwisseling zonder barsten.
Ultra-lage onzuiverheidsuitloging: Integraal hoogzuiver kwarts zonder zware metaalafbraak, vrij van vervuiling voor wafers, hoogzuivere reagentia en elektronische gasbronnen.
Gladde binnenwand anti-verstopping: Precisie gepolijste boring voorkomt hechting van kristallen en deeltjes om onderhoudsonderbrekingen te verminderen.
Hoge hardheid en erosiebestendigheid: Hoge Mohs-hardheid vermijdt boorvergroting veroorzaakt door langdurig hogesnelheid vloeistof/gas spoelen, waardoor stabiele maatnauwkeurigheid behouden blijft.
Nauwkeurige microstroom boring: 0,5 mm precisie klein gat levert uniforme stabiele vloeistof/gasstroom voor nauwkeurige microverneveling en stromingsregeling.

