-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
| Markeren | Borosilicaat-optisch glasdragerplatform,Laag autofluorescentie kwartsglasplaat,Hoogvlakke kwartsglasplaat |
||
|---|---|---|---|
1. Basisproductinformatie
Productnaam: D265 Low Autofluorescence High Flatness Borosilicate Glass Carrier Platform Basismateriaal: Klasse 1 hoge hydrolytische weerstand D265 borosilicate optisch glas Verwerkingstechnologie:optisch polijsten, dubbelzijdig, precieze slijpmachines, ultra-schoon schoonmaken Standaard Optioneel formaat: op maat gemaakte vierkant of ronde vormen; standaarddikte 0,17-1,2 mm, vlakheid ≤2 μm, TTV totale dikte variatie ≤1 μm
2Hoofdtoepassingen
Precisie monolithische bewerking van speciaal laag alkalisch D265 borosilicaat glas, deze drager heeft ultra-lage autofluorescentie, hoge lichtdoorlaatbaarheid, zuur & alkalisch weerstand,lage thermische expansie en superieure vlakheidHet wordt veel gebruikt als dragersubstraat voor microscopische waarneming, halfgeleider tijdelijke binding, biologische testen, optische lithografie en precisie laboratoriumapparatuur.
3. Belangrijkste voordelen (tegenover gewone borosilicaat/floatglasdragers)
Ultra-lage autofluorescentie: met een lage alkalische D265-formule wordt de achtergrondfluorescentie tot een minimum beperkt, waardoor de interferentie van zwerflicht voor fluorescentiemicroscopie wordt geëlimineerd; superieure chemische stabiliteitHoogwaardige hydrolytische weerstand tegen langdurige erosie van organische oplosmiddelen, zwakke zuren en alkalis met geen ionen neerslag; lage thermische expansie en thermische stabiliteit: CTE in combinatie met siliciumwafers,met een vermogen van meer dan 30 W,; Uitstekende optische doorstraling: hoge UV- en zichtbaar lichtdoorstraling met geen chromatische aberratie, compatibel met optische waarneming, laser en UV-ontbindingsprocessen; ultraprecieze vlakheid:Tweezijdig polijst met hoge precisie met nauwgezet gecontroleerde vlakheid en dikte toleranties, voldoet aan de microniveau-precisievereisten voor halfgeleiders en precisieoptica; laag alkalisch en verontreinigingsvrij:Een laag alkalisch gehalte voorkomt cellenbeschadiging en verontreiniging van wafers/reagentia van hoge zuiverheid, perfect voor hoogzuivere productieprocessen.

