-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
180×15×5mm zeer zuiver kwartssubstraat met hoge temperatuurbestendigheid
| Materiaal | Hoge zuiverheid gesmolten silica (SiO2 > 99,99%) | Afmetingen | 180 mm x 15 mm x 5 mm (L x B x D) |
|---|---|---|---|
| Max bedrijfstemperatuur | 1100°C | Oppervlakteafwerking | Precisiegeslepen en gepolijst |
| Thermische expansiecoëfficiënt | 5,5 x 10^-7/°C (ultralage CTE) | Chemische weerstand | Fluorwaterstofzuur, sterk zuur en alkali |
| Doorlaatbaarheid | > 92% (UV-zichtbaar bereik) | Metaalonzuiverheid | Ultra-laag, geen neerslag |
| Sollicitatie | Halfgeleiderwafelcoating, optisch filmsubstraat, PV-celarmatuur, laboratoriumcorrosieplatform | ||
| Markeren | hoogzuivere kwartssubstraat,kwartssubstraat van 180×15×5 mm,hoogtemperatuurbestendige kwartssubstraat |
||
Productoverzicht
DeZeer zuiver gesmolten silicakwartssubstraatis een precisiegeslepen kwartsglasplaat (180 mm x 15 mm x 5 mm) ontworpen voor hoogwaardige halfgeleider-, optische coating-, fotovoltaïsche en laboratoriumtoepassingen. Dit substraat is vervaardigd uit eersteklas gesmolten silica (SiO2 > 99,99%) en levert uitzonderlijke thermische stabiliteit, chemische inertheid en optische helderheid, waardoor het de voorkeurskeuze is voor veeleisende productieomgevingen met hoge precisie.
Belangrijkste kenmerken
- Ultrahoge zuiverheid:SiO2 > 99,99% met ultralaag gehalte aan metaalonzuiverheden. Geen ionenprecipitatie zorgt voor een contaminatievrije verwerking voor halfgeleider- en optische toepassingen
- 1100°C temperatuurbestendigheid:Bestand tegen extreme hitte zonder vervorming of degradatie, wat de alternatieven van borosilicaatglas ruimschoots overtreft
- HF en sterke corrosieve weerstand:Uitstekende chemische duurzaamheid tegen fluorwaterstofzuur, sterke zuren en alkaliën – ideaal voor agressieve natchemische processen
- Ultra-lage thermische uitzetting:CTE van 5,5 x 10^-7/°C voorkomt scheuren en kromtrekken bij snelle temperatuurwisselingen
- Hoge doorlaatbaarheid:> 92% transmissie over UV naar zichtbaar spectrum, perfect voor optische coating- en fotolithografische toepassingen
- Precisie oppervlakafwerking:Precisiegeslepen en gepolijste oppervlakken zorgen voor vlakheid en uniforme coatingafzetting
Toepassingen
| Industrie | Sollicitatie |
|---|---|
| Halfgeleider en micro-elektronica | Waferverpakkingsdrager, lithografiesubstraat, coatingbasis voor hoge temperaturen, testplatform voor veroudering van elektronische componenten |
| Optica en foto-elektrisch | Optisch dunne-filmcoatingsubstraat, filterplaatbasis, vacuümcoatingarmatuur, spectrumtestbank |
| PV en nieuwe energie | Coating voor zonnecellen, diffusie bij hoge temperaturen en PECVD-procesdrager, anti-vervormingssubstraat |
| Laboratorium en fijnchemie | Sinterplatform op hoge temperatuur, HF-corrosietestbank, sterke chemische reactiedrager |
| Precisie-instrument | Spectrometer-referentiesubstraat, tafelplaat voor optische inspectieapparatuur |
Concurrentievoordelen
versus borosilicaatglas:Bestand tegen temperaturen boven de 1100°C vs. ~500°C; superieure HF-zuurbestendigheid; 10x lagere thermische uitzetting voorkomt scheuren; ultralage metaalonzuiverheid elimineert het risico op procesverontreiniging
versus aluminiumoxide-keramiek:Hoge optische transparantie voor UV-zichtbare toepassingen; gladdere oppervlakteafwerking voor uniforme coating; lichter gewicht en eenvoudigere precisiebewerking
Specificaties
| Parameter | Waarde |
|---|---|
| Materiaal | Hoge zuiverheid gesmolten silica (SiO2 > 99,99%) |
| Afmetingen | 180 mm (L) x 15 mm (B) x 5 mm (T) |
| Maximale bedrijfstemperatuur | 1100°C |
| CTE | 5,5x10^-7/°C |
| Doorlaatbaarheid | > 92% (UV-zichtbaar) |
| Chemische weerstand | HF, sterk zuur en alkali |
| Oppervlakteafwerking | Precisiegeslepen en gepolijst |
| Metaalonzuiverheid | Ultra-laag, geen neerslag |

