180×15×5mm zeer zuiver kwartssubstraat met hoge temperatuurbestendigheid

Plaats van herkomst China
Modelnummer QT-SB-180x15x5
Prijs negotiable
Productdetails
Materiaal Hoge zuiverheid gesmolten silica (SiO2 > 99,99%) Afmetingen 180 mm x 15 mm x 5 mm (L x B x D)
Max bedrijfstemperatuur 1100°C Oppervlakteafwerking Precisiegeslepen en gepolijst
Thermische expansiecoëfficiënt 5,5 x 10^-7/°C (ultralage CTE) Chemische weerstand Fluorwaterstofzuur, sterk zuur en alkali
Doorlaatbaarheid > 92% (UV-zichtbaar bereik) Metaalonzuiverheid Ultra-laag, geen neerslag
Sollicitatie Halfgeleiderwafelcoating, optisch filmsubstraat, PV-celarmatuur, laboratoriumcorrosieplatform
Markeren

hoogzuivere kwartssubstraat

,

kwartssubstraat van 180×15×5 mm

,

hoogtemperatuurbestendige kwartssubstraat

Laat een bericht achter
Productomschrijving

Productoverzicht

DeZeer zuiver gesmolten silicakwartssubstraatis een precisiegeslepen kwartsglasplaat (180 mm x 15 mm x 5 mm) ontworpen voor hoogwaardige halfgeleider-, optische coating-, fotovoltaïsche en laboratoriumtoepassingen. Dit substraat is vervaardigd uit eersteklas gesmolten silica (SiO2 > 99,99%) en levert uitzonderlijke thermische stabiliteit, chemische inertheid en optische helderheid, waardoor het de voorkeurskeuze is voor veeleisende productieomgevingen met hoge precisie.

Belangrijkste kenmerken

  • Ultrahoge zuiverheid:SiO2 > 99,99% met ultralaag gehalte aan metaalonzuiverheden. Geen ionenprecipitatie zorgt voor een contaminatievrije verwerking voor halfgeleider- en optische toepassingen
  • 1100°C temperatuurbestendigheid:Bestand tegen extreme hitte zonder vervorming of degradatie, wat de alternatieven van borosilicaatglas ruimschoots overtreft
  • HF en sterke corrosieve weerstand:Uitstekende chemische duurzaamheid tegen fluorwaterstofzuur, sterke zuren en alkaliën – ideaal voor agressieve natchemische processen
  • Ultra-lage thermische uitzetting:CTE van 5,5 x 10^-7/°C voorkomt scheuren en kromtrekken bij snelle temperatuurwisselingen
  • Hoge doorlaatbaarheid:> 92% transmissie over UV naar zichtbaar spectrum, perfect voor optische coating- en fotolithografische toepassingen
  • Precisie oppervlakafwerking:Precisiegeslepen en gepolijste oppervlakken zorgen voor vlakheid en uniforme coatingafzetting

Toepassingen

IndustrieSollicitatie
Halfgeleider en micro-elektronicaWaferverpakkingsdrager, lithografiesubstraat, coatingbasis voor hoge temperaturen, testplatform voor veroudering van elektronische componenten
Optica en foto-elektrischOptisch dunne-filmcoatingsubstraat, filterplaatbasis, vacuümcoatingarmatuur, spectrumtestbank
PV en nieuwe energieCoating voor zonnecellen, diffusie bij hoge temperaturen en PECVD-procesdrager, anti-vervormingssubstraat
Laboratorium en fijnchemieSinterplatform op hoge temperatuur, HF-corrosietestbank, sterke chemische reactiedrager
Precisie-instrumentSpectrometer-referentiesubstraat, tafelplaat voor optische inspectieapparatuur

Concurrentievoordelen

versus borosilicaatglas:Bestand tegen temperaturen boven de 1100°C vs. ~500°C; superieure HF-zuurbestendigheid; 10x lagere thermische uitzetting voorkomt scheuren; ultralage metaalonzuiverheid elimineert het risico op procesverontreiniging

versus aluminiumoxide-keramiek:Hoge optische transparantie voor UV-zichtbare toepassingen; gladdere oppervlakteafwerking voor uniforme coating; lichter gewicht en eenvoudigere precisiebewerking

Specificaties

ParameterWaarde
MateriaalHoge zuiverheid gesmolten silica (SiO2 > 99,99%)
Afmetingen180 mm (L) x 15 mm (B) x 5 mm (T)
Maximale bedrijfstemperatuur1100°C
CTE5,5x10^-7/°C
Doorlaatbaarheid> 92% (UV-zichtbaar)
Chemische weerstandHF, sterk zuur en alkali
OppervlakteafwerkingPrecisiegeslepen en gepolijst
MetaalonzuiverheidUltra-laag, geen neerslag