-
Optisch kwartsglas
-
Het machinaal bewerken van Kwartsglas
-
Kwartsglazen buis
-
Kwarts capillaire buis
-
Borosilicaatglazen buis
-
Kwartsglasstaaf
-
Laserreserveonderdelen
-
Siliciumdioxide sputterdoel
-
Kwartsapparaat
-
De Plaat van het kwartsglas
-
Aangepaste glazen onderdelen
-
Aangepaste keramische onderdelen
-
Optisch Productiemateriaal
-
Mobiele Glasdekking die Machine maakt
-
Optisch Meetinstrument
-
Optisch Kristal
Dubbelzijdig gepolijst kwartsvenster 210x20 mm hoge zuiverheid voor kijkglas van de halfgeleidervacuümkamer
| Materiaal | Hoge zuiverheidskwarts | Afmetingen | Φ210 mm x 20 mm |
|---|---|---|---|
| Oppervlak | Dubbelzijdig precisie gepolijst | Temperatuurbestendigheid | Tot 1100°C |
| Chemische weerstand | HF- en sterk zuur-/alkalibestendig | Doorlaatbaarheid | Hoge transmissie |
| Zuiverheid | Hoge zuiverheid, geen metaalneerslag | ||
| Markeren | Dubbelzijdig gepolijst kwartsvenster,kwartsvenster van 210x20 mm,kwartskijkglas met hoge zuiverheid |
||
Dubbelzijdig gepolijst kwartsvenster Φ210x20mm
Dit dubbelzijdig gepolijste kwartsvenster, met een afmeting van Φ210x20 mm, biedt uitzonderlijke optische helderheid en chemische duurzaamheid voor veeleisende industriële en wetenschappelijke toepassingen.Precies gepolijst op beide oppervlakken met een zuivere kwartsconstructieHet biedt een hoge doorlaatbaarheid, warmtebestandheid bij 1100°C en zuurbestandheid bij HF, ideaal voor halfgeleider vacuümkamera's.Hoogtemperatuurovens en chemische reactoren.
Productparameters
| Parameter | Specificatie |
|---|---|
| Materiaal | Hoog zuiver kwarts |
| Afmetingen | Φ210 mm x 20 mm |
| Oppervlakte afwerking | Tweezijdig gepolijst met hoge precisie |
| Overdraagbaarheid | Hoge doorstroming |
| Vlakheid | Uitstekende vlakheid |
| Temperatuurbestendigheid | Tot 1100°C (langdurig) |
| Chemische weerstand | HF- en sterk zuur-/alkalibestand |
| Zuiverheid | Hoge zuiverheid, geen metaalverontreiniging |
| Thermische schokbestendigheid | Uitstekende, lage thermische expansie |
Belangrijkste kenmerken
- Optische dubbelzijdige polijst¢ Beide oppervlakken zijn nauwkeurig gepolijst voor maximale lichtdoorstraling met minimale verstrooiing, zodat optisch zicht en meting zonder vervorming mogelijk zijn.
- 1100°C Continu werkzaam- Behoudt optische helderheid en structurele integriteit onder aanhoudende hoge temperatuuromstandigheden, ideaal voor ovenviewport en hoge temperatuurkamera toepassingen.
- HF & sterke chemische weerstand Beter dan borosilicaatglas, bestand tegen fluorwaterstofzuur en geconcentreerde zuren/alkaliën voor chemische reactoren.
- Hoge zuiverheid, geen verontreiniging- 99,99% puur kwarts met geen metaalverontreinigingen, waardoor verontreiniging van de kamer in halfgeleiders en hoogzuivere processen wordt voorkomen.
- Lage thermische expansie¢ Uitstekende thermische schokbestendigheid voorkomt scheuren bij snelle temperatuurveranderingen, waardoor een lange levensduur wordt gewaarborgd in cyclische verwarmingsomgevingen.
Toepassingen
1. Halve-geleiders en PV-apparatuur
Vacuümkamer, PECVD- en coatingsmachine-zichtvenster dat stof en procesgassen isoleert en tegelijkertijd bestand is tegen hoge temperaturen en corrosieve gasomgevingen zonder dat de werkstukken in de kamer worden verontreinigd.
2. Optische inspectieinstrumenten
Lichtpadverzegelingsvenster voor spectrometers en UV-testapparatuur, waardoor verliesloze lichtoverdracht wordt gewaarborgd voor een verbeterde detectie- en meetnauwkeurigheid.
3Hoogtemperatuurindustrieovens
Observatiekamer voor buizenovens en sinterovens, bestand tegen continue werking bij 200-1100 °C en bestand tegen thermische schokken.
4Chemische en laboratoriumapparatuur
Corrosiebestendig glas voor reactievaten en corrosieve reactieapparatuur, bestand tegen HF en geconcentreerde chemicaliën voor realtime interne procesobservatie.
Voordelen ten opzichte van borosilicaatglas
In tegenstelling tot borosilicaatglasramen die worden aangevallen door HF en afbreken bij hoge temperaturen, biedt dit kwartsramen volledig HF-weerstand, aanhoudende werking bij 1100°C,een superieure optische doorlaatbaarheid door dubbelzijdig polijsten, lage thermische uitbreiding voor thermische schokbestendigheid en hoge zuiverheid voor verontreinigingsvrije werking in halfgeleider- en zeer schone productieomgevingen.

